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| MULTICLEAN LC II / Lean Concept |
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| Die kompakte Lösung für präzise Reinigungsaufgaben |
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Dieses Anlagenkonzept ist geeignet für den Einsatz aller gängigen Lösemittel unter Voll-Vakuum, und erfüllt höchste Ansprüche an die Reinigungsqualität auf kleinstem Raum. Es wurde speziell für Anwender mit geringem Teileaufkommen konzipiert, welche Wert auf eine hochwertige Reinigung legen. Hierzu zählen insbesondere Betriebe der Dreh- und Stanztechnik oder Hersteller von medizintechnischen Produkten. Ebenso gut lässt sich das System dezentral in Fertigungsinseln integrieren.
Die Bedienung erfolgt mehrsprachig über ein benutzerfreundliches Farbgrafik-Display. Höckh typisch ist die automatisierte Beladetüre der handbeschickten Lean-Concept-Anlage als Vollglas-Hubtüre ausgeführt – somit lässt sich der Prozess optimal beobachten.
Der sichere und umweltkonforme Einsatz moderner Lösemittel unter Voll-Vakuum sowie die wartungsfreie Destille mit Wärmerückführung, Restdestillation und automatischer Ölabschleusung sorgen für einen unkomplizierten und wirtschaftlichen Betrieb, und die erweiterte Energiespar-Funktion reduziert den Stromverbrauch im Stand-By auf ein absolutes Minimum.
Durch die modulare Erweiterbarkeit bieten sich viele Möglichkeiten der Anpassung an den jeweiligen Bedarf: Zubehör wie ein zweiter Reinigungskreis zur Feinstreinigung oder zum gezielten Konservieren von Teilen, eine mehrstufige Filtration mit Edelstahl-Dauerfilterelementen oder Hochleistungs-Ultraschall lassen sich jederzeit nachrüsten. |
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Technische Daten .
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MULTICLEAN LC-II
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Korbmaße (LxBxH)
(alternativ)
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370 x 220 x 200 mm - Schäfer B / Mefo 4007
480 x 320 x 200 mm - Schäfer II / Mefo 4005
2x 410 x 245 x 130 mm - Novel 410
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Durchsatz
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ca. 4 - 6 Chargen / h, abhängig vom Reinigungsprogramm
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Chargengewicht
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max. 40 kg
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Anschlusswert
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ca. 8 - 18 kW, je nach Anlagenkonfiguration
zzgl. 5 kW Kälteaggregat
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Destillatleistung
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ca. 50 l/h
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Füllvolumen
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150 - 240 l, je nach Anlagenkonfiguration
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Maße (BxTxH)
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1.300 x 1.850 x 1.980 mm Basismodul
700 x 1.850 x 1.980 mm Anbaumodul
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