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Multiclean-FX

Reinigen mit Lösemitteln unter Vollvakuum
Prozessbeschreibung
Druckabsenkung
Nach Schließen der Beladetüre und Dichtheitsprüfung wird die Prozesskammer auf Systemdruck evakuiert.
Vor-Reinigen aus Tank 1
Mit einer geringen Menge Lösungsmittel aus Tank 1 kann stark ölige Ware durch Abspritzen vorgereinigt werden. Anschließend wird das verschmutzte Lösungsmittel direkt in die Destille gepumpt. Die fehlende Menge an Lösemittel im Tank wird mit frischem Destillat nachgefüllt.
Reinigen aus Tank 1
Mittels Pumpe wird Lösungsmittel aus Tank 1 in die Prozesskammer gefördert. Die Ware wird von oben über ein Schwallrohr über die gesamten Länge mit dem Lösungsmittel beaufschlagt bis der maximale Füllstand in der Prozesskammer erreicht ist. Sodann kann die Reinigung kann durch Einsatz von Ultraschall (optional) und/oder Spänefluten unterstützt werden. Nach Ablauf der Behandlungszeit wird das Lösungsmittel über die Filter wieder zurück in Tank 1 gepumpt.
Nach-Reinigen aus Tank 1
Eine kurze Spritz-Reinigung sprüht die Ware nochmals ab, um abgelöste Verunreinigungen (Späne) abspülen und den Kammerauslauf zu reinigen.
Fein-Reinigen / Spülen aus Tank 2
Wie oben, jedoch mit Lösungsmittel aus Tank 2.
Dampfentfetten
Reiner Lösungsmitteldampf aus der Destille wird direkt in die Prozesskammer eingeleitet und kondensiert auf den kälteren Teilen. Damit werden verbliebene Ölfilm-Reste vollständig abgespült und die Teile weiter aufgeheizt (Vorteilhaft für die anschließende Vakuumtrocknung).
Konservieren aus Tank 3 (Option)
Wie Prozessschritt Reinigen, jedoch mit Medium aus einem zusätzlichem Konserviertank.
Vakuumtrocknung
Durch weitere Absenkung des Druckes in der Prozesskammer verdampft das Lösungsmittel von der Ware. Anschließend wird die Kammer wieder auf Umgebungsdruck belüftet.
Reinluftspülung + Konzentrations-Messung
Die Luft in der Prozesskammer wird im Kreislauf über den Adsorber geführt, bis das Konzentrations-Messgerät eine Unterschreitung des zulässigen Grenzwertes anzeigt und den Reinigungsprozess beendet (nur bei CKW)
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